
全自動晶圓化學清洗設備
自動化半導體晶圓化學清洗設備SCS-Q012-150mm(50晶圓)是實現(xiàn)混合物(SPM) -HF溶液-過氧化物-氨水溶液(APM) -過氧化物-鹽溶液(HPM)交替加工的工藝過程,在化學試劑中對直徑為150mm的半導體晶圓進行清洗。
產(chǎn)品特點
1.適用直徑150mm的晶圓;
2.每個槽中至少有50片晶圓,放置在2個卡塞中;
3.自動晶圓定位系統(tǒng);
4.機械手自動操作和運輸系統(tǒng);
5.配備高效微??諝膺^濾器;
6.配置溶液制備系統(tǒng);
7.控制系統(tǒng):PLC+人機界面。
應用領域
晶圓制造等