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晶圓單片式清洗機(jī)
單片式清洗機(jī)是由幾個(gè)清洗腔體組成,再通過機(jī)械手將每一片晶圓送至各個(gè)腔體中進(jìn)行單獨(dú)的噴淋式清洗,清洗效果較好,避免了交叉污染和前批次污染后批次,具有極高的工藝環(huán)境控制能力與微粒去除能力,有效解決晶圓之間交叉污染的問題。 可定制2/4/6/8/12/16腔室,單腔室處理速度可達(dá)到35片/小時(shí),根據(jù)客戶需求定制適用于8寸/12寸硅片清洗,內(nèi)... MORE +
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全自動槽式清洗機(jī)
全自動槽式清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域、先進(jìn)封裝領(lǐng)域里的清洗、刻蝕后、光刻膠去除等工藝。與傳統(tǒng)的清洗設(shè)備相比自動化程度更高,可用于4寸、6寸、8寸、12寸硅片清洗。還可以選配兆聲波系統(tǒng)、管路防靜電等配置。設(shè)備可以提供在異常情況下對硅片的獨(dú)特保護(hù)(SPS系統(tǒng))。可提供多個(gè)槽體或單片進(jìn)行化學(xué)藥液或純水,結(jié)合噴淋、溢流、... MORE +
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去膠清洗機(jī)
設(shè)備名稱:槽式濕法去膠機(jī)
整機(jī)尺寸:約 5200mm(L)× 1900mm(W)×2200mm(H);
操作臺面高度:950±50mm;
適用產(chǎn)品:12inch晶圓(兼容8inch晶圓);
操作系統(tǒng):PLC 操作系統(tǒng);
設(shè)備具有12英寸(兼容8英寸)晶圓上的光刻膠去除功能;
適用于12英寸和8英寸晶圓上的正性光刻膠、負(fù)性光刻膠去除工藝,并對晶圓上的相關(guān)金屬... MORE +
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