全自動槽式清洗機的特點與用途
全自動槽式清洗機的特點與用途
全自動槽式清洗機廣泛應用于集成電路、微機電系統(tǒng)和光伏領域里的CMP后清洗工藝。清洗機可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過自主創(chuàng)新的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除,實現(xiàn)高效去除??商峁┒鄠€槽體進行化學藥液或純水,結合噴淋、溢流、快速沖洗等清洗方式,配合先進的IPA干燥方式,可同時對應25或50片進行工藝處理。
產品特點
自主研發(fā)的智能精準的傳輸控制系統(tǒng)
全自動化學品集中供液系統(tǒng)(CDS)
藥液溢流設計,減少藥液用量,降低使用成本
清洗效果強,清洗良品率≥99%
可選配多組合的清洗工藝
對顆粒管控能力,≥0.1μm顆粒少于15顆
藥液槽采用雙槽體設計,可實現(xiàn)精確控溫,防止藥液泄露
獨立控制廢液排氣,有效保護人員作業(yè)
應用領域
集成電路、微機電系統(tǒng)、光伏
全自動槽式清洗機廣泛應用于集成電路、微機電系統(tǒng)和光伏領域里的CMP后清洗工藝。清洗機可以用于對晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過自主創(chuàng)新的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除,實現(xiàn)高效去除??商峁┒鄠€槽體進行化學藥液或純水,結合噴淋、溢流、快速沖洗等清洗方式,配合先進的IPA干燥方式,可同時對應25或50片進行工藝處理。
產品特點
自主研發(fā)的智能精準的傳輸控制系統(tǒng)
全自動化學品集中供液系統(tǒng)(CDS)
藥液溢流設計,減少藥液用量,降低使用成本
清洗效果強,清洗良品率≥99%
可選配多組合的清洗工藝
對顆粒管控能力,≥0.1μm顆粒少于15顆
藥液槽采用雙槽體設計,可實現(xiàn)精確控溫,防止藥液泄露
獨立控制廢液排氣,有效保護人員作業(yè)
應用領域
集成電路、微機電系統(tǒng)、光伏
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